罗仕洲

工作经历：
2018.07-至今        磐允电子科技（上海）有限公司 总经理
2018.01-2018.07     中芯国际集成电路制造（绍兴）有限公司 绍兴新厂筹建工程总监
2014.10-2018.01     中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 中段晶圆一厂总监
2013.10-2014.10     空气产品公司全球市场及应用总监
2012.10-2013.10     中芯国际S1 ETCH/Cu WET 部门经理
2006.01-2012.10     中芯国际S1 WET 部门经理
2003.07-2005.12     中芯国际WET/IMP/RTP 工艺课经理 
1997.08-2003.06     分别在台湾台积电（TSMC）、上海中芯国际（SMIC）等公司担任资深及主任工程师

论文、专利
发表论文：
1. Victor Luo (罗仕洲), Xing-Tao Xue, Kuan-Chieh Yu, Jin Meng, Hong-Liang Lu, David Wei Zhang. Mehod to Improve the Process Effectiency for Copper Pillar Electroplating”， J. Electrochem. Soc.,2016, 163(3): 39-42.
2. Victor Luo (罗仕洲), Jing-Xiu Ding, Xing-Tao Xue, Rui-Peng Zhang, Xian-Ming Zhang, Hong-Liang Lu, David Wei Zhang. Effective Approaches to Improve Au Etching Process Performance ” CSTIC 2016 China Semiconductor Technology International Conference, 2016, Shanghai, China,Page:1-9.
3. Victor Luo (罗仕洲), Jason Chang, Kevin Shi and Justin Ni. Effect of De-ionized wafer Rinse in AlCu line post etch asher residue removal process using fluoride containing stripper ” ECS Transcation 2012 44(1):319-323
4. Victor Luo (罗仕洲), Jason Chang, Kevin Shi, Libbert Peng, Liubing, Jason Zhang and David Wei Zhang. BEOL Solvent Clean Process Study using Fluoride Containing and hydroxylamine Based Stripper ” ECS Transcation 2012 44(1):313-317.
5. V Luo (罗仕洲), J Chang, K Shi, B Liu, L Peng. Prevention of AlCu line Galvanic Corrosion after Fluoride containing Stripper cleaning : a case study (CSTIC China, 2011 )
6. V Luo (罗仕洲), J Ding, W Zhan, L Peng, A Wang. Method to Reduce Crystal Defects in AlCu Bond Pad (CSTIC China, 2010 ) 
7. F Xiao, H Wang, SZ Luo (罗仕洲)  Hot Phosphoric Acid Etch Rate to Si_3N_4 in Wet Etching. Semiconductor Technology , 2007 , 32 (10) :847-850 
8. HJ Keh, SC Luo (罗仕洲)  Particle Interactions in Diffusiophoresis: Axisymmetric Motion of Multiple Spheres in Electrolyte Gradients,  Langmuir 12 , 657-667 (1996) .
9. Huan J. Keh , Shih C Luo (罗仕洲). Particle Interactions in Diffusiophoresis in Nonelectrolyte gradients, Phys. Fluids 7 , 2122-2131 (1995) .

专利：
1. 一种半导体器件的选择性刻蚀方法及BSI图像传感器制作方法 - 201310312586.0
王冲;吴秉寰;罗仕洲;奚民伟;常延武;史爽
2. 烘干机 - 201120300162.9钱文明;罗仕洲;肖方
3. 用于减少晶片表面缺陷的湿式蚀刻方法及其装置 - 200710172511.1;101465273B
徐宽;汤舍予;林德成;罗仕洲
4. 在氮化硅层上形成氮氧化硅层的方法 - 02101551.1;1202562傅焕松;谢永明;罗仕洲
5. 用于减少晶片表面缺陷的湿式蚀刻方法及其装置 - 200710172511.1徐宽;汤舍予;林德成;罗仕洲
6. 晶片干燥方法及装置 - 200610147946.6丁士成;罗仕洲;詹扬;李强
7. 电容器的制造方法 - 03142136.9罗仕洲;谢永明;傅焕松

学术活动：
1.浙江大学半导体校友会-求是缘协会理事。
2.中国半导体制造微信群组平台-欢芯鼓伍俱乐部创始人。
3.担任《半导体国际》晶圆清洗技术专家委员会成员。
4.牺牲氧化层的湿法蚀刻对栅氧化层影响的研究 2011复旦大学硕士论文指导老师。
5.晶圆清洗工艺中水痕问题的研究 2007上海交通大学硕士学位论文指导老师。